Titan Metalbitt ganz héich mechanesch Kraaft an aussergewéinlech Korrosiounsbeständegkeet. Et gëtt vill als strukturell Material an de verschiddenen industriellen Uwendungen benotzt. Titan produzéiert Schutzoxidschicht, déi d'Basismetall vu korrosive Attack an de verschiddenen Applikatiounsëmfeld verhënnert.

Et ginn dräi Aarte vun Titan Mesh gemaach duerch Fabrikatioun Method: Weben Mesh gemaach, gestempelt Mesh gemaach, an erweidert Mesh gemaach.
Titan Drot gewéckelt Mesh gemaachass duerch kommerziell pure Titan Metal Drot gewéckelt, an d'Ouverture si regelméisseg Quadrat. Den Drot Duerchmiesser an Ouverture Gréisst sinn géigesäitege Restriktiounen. Drotmesh mat klengen Ëffnungen gëtt meeschtens fir Filteren benotzt.
Gestempelt Mesh gëtt aus Titanplacke gestempelt, d'Ouverture si regelméisseg ronn, et kann och aner néideg sinn. Stamping Stierwen sinn an dësem Produkt engagéiert. D'Dicke an d'Ouverture Gréisst sinn géigesäitege Restriktiounen.
Titan Blat erweidert Mesh gemaachgëtt aus Titanplacke erweidert, d'Ouverture sinn normalerweis Diamant. Et gëtt als Anode a ville Beräicher benotzt.
Titan Mesh gëtt normalerweis mat Metalloxid a Metallmëschung Oxid Beschichtet (MMO Beschichtet) wéi RuO2 / IrO2 Beschichtete Anode, oder platiniséierter Anode. Dës Mesh-Anoden gi fir Kathodeschutz benotzt. Verschidde Beschichtungen gi fir verschidden Ëmstänn benotzt.

Fonktioun
Staark Resistenz géint Säure an Alkali.
Gutt Anti-demping Leeschtung.
Héich tensile nozeginn Kraaft.
Niddereg Elastizitéitsmodul.
Net-magnetesch, net gëfteg.
Gutt Temperaturstabilitéit a Konduktivitéit.

Titan Mesh Uwendungen:
Titan Mesh gëtt a villen Uwendungen benotzt, wéi zum Beispill Mierwaasser-Schëffsbau, Militär, mechanesch Industrie, chemesch, Petrol, pharmazeutesch, Medizin, Satellit, Raumfaart, Ëmweltindustrie, Elektroplatéierung, Batterie, Chirurgie, Filtratioun, chemesche Filter, mechanesche Filter, Uelegfilter , elektromagnetesch Schirmung, elektresch, Kraaft, Waasserdesalinatioun, Wärmetauscher, Energie, Pabeierindustrie, Titanelektrode etc.